grafen, materiały półprzewodnikowe, monokryształy, materiały grubowarstwowe, produkty na bazie szkła i ceramiki, podłoża pod systemy elektroniczne) oraz przyrządy na bazie tych materiałów.
Instytut wdraża i upowszechnia wyniki tych prac w gospodarce we współpracy z instytucjami naukowymi i przedsiębiorcami.
Zakres działania Instytutu obejmuje w szczególności:
opracowanie konstrukcji i technologii wytwarzania mikro- i optoelektronicznych przyrządów półprzewodnikowych, w tym: mikrofalowych i oraz fotonicznych przyrządów dyskretnych, detektorów i czujników, układów scalonych, mikro-systemów i podzespołów elektronicznych, mikroelektronicznych układów hybrydowych, przyrządów mocy, elementów dyfrakcyjnych; rozwój metod projektowania mikro- i opto- elektronicznych przyrządów półprzewodnikowych oraz opracowywanie nowych metod charakteryzacji materiałów, struktur i przyrządów półprzewodnikowych; opracowywanie technologii wytwarzania nowych materiałów takich jak węglik krzemu, grafen epitaksjalny i płatkowy, kompozyty ceramiczno-metalowe i zaawansowana ceramika oraz badania ich właściwości pod kątem ich przemysłowego wykorzystania; prowadzenie działalności normalizacyjnej, certyfikacyjnej i aprobacyjnej.
Organizacja prac badawczych Instytutu opiera się o cztery linie technologiczne: