HfC ma bardzo wysoką temperaturę topnienia, powyżej 3890 °C, a stop węgliku hafnu i węgliku tantalu (Ta4HfC5) ma jedną z najwyższych znanych temperatur topnienia: 3990 °C.
Zastosowanie Z uwagi na wysokie pochłanianie neutronów termicznych (600 razy większe od cyrkonu) stosowany jest w cermetalach na pręty regulacyjne reaktorów jądrowych.
Hafn był wykorzystywany w rodzinie procesorów Intela Penryn, jako izolacja tranzystorów (wykonywanych w technologii MOSFET) pozwalająca zachować stabilność przetwarzania informacji – obniżyć stopę błędów. Stosowanie HfO2 zamiast typowego dwutlenku krzemu SiO2 podyktowane jest wysoką wartością jego stałej dielektrycznej, dzięki czemu zmniejsza się „wyciekanie” elektronów (zjawisko tunelowe) przez bardzo cienkie warstwy izolatora. Stosuje się go również w elektrodach wykorzystywanych w cięciu plazmowym.
Uwagi
Przypisy
Kategoria:Pierwiastki chemiczne Kategoria:Hafn